セルロイドカンファレンス2006

セルロイドカンファレンス２００６東京プログラム
セルロイド産業文化研究会セルロイドライブラリ・メモワールハウス
セルロイドカンファレンス２００６東京プログラム
日時：　平成１8年11月17日（金曜日）午後１時より受付開始
同時併催セルロイドファンの集い２００６東京
日時：　平成１8年11月17日（金曜日）午後3時より受付開始
場所：　国際文化会館別館講堂および懇親会会場　　　　　東京都港区六本木5-11-16　電話：03-3470-4611
午後5時30分から懇親会をリセプションルームで行います。事前申込者の方はカンファレンス、ファンの集い及び懇親会に無料でご出席頂けます。

プログラム議事次第
セルロイドカンファレンス２００６東京プログラム
１．	開会の挨拶	会長甲斐　学（セルロイド産業文化研究会会長）

２．	セルロイド物故者への黙祷	小野　喜啓（関西セル･プラ工業協同組合理事長）
――――――第一部　セルロイド産業について――――――

（１）	セルロイド発明のいきさつ	技術委員長　中條澄

（２）	セルロイド産業年表を作って（占領下の日本のセルロイド産業など）	技術副委員長　和久井昭蔵

（３）	セルロイド関連技術の周辺	研究会監事　塚田興治

――――――第２部　招待講演――――――

３．	セルロイドの写真フィルムからデジタル画像事業まで－技術と材料面から－	元富士写真フィルム（株）副社長上田博造氏

３．	閉会の言葉	岩井　薫生セルロイド産業文化研究会代表理事


セルロイドファンの集い２００６東京
１．	開催の挨拶	岩井　薫生セルロイドハウス横浜館館長
２．	セルロイドと遊ぼう	技術委員　三木弘司技術委員　立川信義平井英一（セルロイド加工業）
PM　3：15　～　5：00 ・セルロイドはどうして出来るか（製造と加工）・セルロイドの吹き込み成形加工・セルロイドの修理と彩色・Q & A
――――――パーティ及び懇親会――――――
午後5時30分より

参加費用：	カンファレンスおよび懇親会ともすべて無料、ただし、事前に申込の方に限ります。
申込先：	東京都港区赤坂2-4-1（白亜ビル5F） TEL：０３－３５８５－８１３１ FAX：０３－３５８８－１８３０メール： celluloidhouse@aol.com